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水平生长碳纳米管的方法和使用碳纳米管的场效应晶体管

摘要

揭示了一种水平生长碳纳米管的方法,其中可以在形成有触媒的基底上的特定位置在水平方向选择性地生长碳纳米管,该方法可用于制造纳米器件。该方法包括以下步骤:(a)在第一基底上形成预定触媒图形;(b)在第一基底上形成垂直生长防止层,该防止层防止碳纳米管在垂直方向生长;(c)通过垂直生长防止层和第一基底形成多个小孔,以通过小孔露出触媒图形;(d)在触媒图形的暴露表面上合成碳纳米管以便在水平方向生长碳纳米管。

著录项

  • 公开/公告号CN1251962C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-04-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LG电子株式会社;

    申请/专利号CN01120632.2

  • 申请日2001-07-18

  • 分类号B82B3/00(20060101);H01L29/772(20060101);

  • 代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人余朦;李辉

  • 地址 韩国首尔

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-09-22

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B82B 3/00 授权公告日:20060419 申请日:20010718

    专利权的终止

  • 2006-04-19

    授权

    授权

  • 2002-02-06

    公开

    公开

  • 2001-12-12

    实质审查的生效

    实质审查的生效

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