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大口径衍射光栅曝光装置及大口径衍射光栅的制备方法

摘要

一种用于涂布光刻胶的基板上制备衍射光栅的大口径衍射光栅曝光装置及大口径衍射光栅的制备方法,装置由激光器、电子快门、第一半波片、偏振分光镜、第二半波片、第一反射镜、第二反射镜、第一空间滤波器、第一矩形光阑、第一离轴抛物面大反射镜、压电陶瓷、第三反射镜、第二空间滤波器、第二矩形光阑、第二离轴抛物面大反射镜、基板、小参考光栅、接受屏、CCD和计算机组成,本发明采用单频稳频的半导体激光器或激光二极管泵浦固体激光器能提供更高的连续功率或平均功率,使曝光时间大为减少,降低系统对环境稳定性的要求,基底可以使用膨胀系数较小或轻质的材料,具有成像质量高、无像差、制备衍射光栅的口径大、使用方便、价格便宜等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN104730868B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-03-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201510133314.3

  • 发明设计人 徐文东;阮昊;苏雅茹;

    申请日2015-03-25

  • 分类号G03F7/20(20060101);G02B5/18(20060101);

  • 代理机构31213 上海新天专利代理有限公司;

  • 代理人张泽纯;张宁展

  • 地址 201800 上海市800-211邮政信箱

  • 入库时间 2022-08-23 09:53:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-03-15

    授权

    授权

  • 2015-07-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20150325

    实质审查的生效

  • 2015-06-24

    公开

    公开

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