法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-03-15
保密专利的解密 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20080807
保密专利的解密
2013-04-03
保密专利专利权授予
保密专利专利权授予
机译: 用于沉积建模的基于镍的耐腐蚀合金粉末,使用该粉末的多层模型以及用于半导体生产设备的构件的制造方法
机译: 用于沉积建模的基于镍的耐腐蚀合金粉末,使用该粉末的多层模型以及用于半导体生产设备的构件的制造方法
机译: 具有建模光源阵列和多边形镜像的三维建模设备的头装置,以及使用该模型平面扫描方法