法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-02-22
授权
授权
2014-10-29
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 19/00 申请日:20140626
实质审查的生效
2014-10-08
公开
公开
机译: 通过样品光刻设备在半导体器件的纳米区域中产生几何结构即线的方法,涉及在衬底上产生点矩阵,以及产生补充点矩阵的点的子图案
机译: 用于产生数字照相机的感光乳剂或矩阵记录的抽象的分形摄影图像的方法,该方法基于照明对象的相干单色辐射源,在时间和空间上机械分布操作者模式
机译: 熔断器单元,矩阵结构以及采用该矩阵结构的成型方法