膜厚度测量设备与膜厚度测量方法

摘要

一种测量薄膜厚度的设备，它使第一能量和第二能量的电子束轰击形成在硅衬底上的待测量薄膜，并测量在第一能量的电子束轰击衬底时，在衬底内流动的电流的第一衬底电流值和在第二能量的电子束轰击衬底时，在衬底内流动的电流的第二衬底电流值。该薄膜测量设备获得表示膜厚度与作为变量的基准函数之间关系的基准数据，该基准函数具有在第一能量的电子束轰击标准采样时的衬底电流和第二能量的电子束轰击标准采样时的衬底电流，该薄膜测量设备还考虑基准数据，根据第一和第二衬底电流值计算在测薄膜的厚度。