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一种利用原子层沉积技术制作微通道板功能层的方法

摘要

本发明提供一种利用原子层沉积技术制作微通道板功能层的方法,以克服微通道板利用传统氢还原技术制备功能层的固有缺陷,解决微通道板功能层制造复杂,性能不稳定,寿命不长等难题,制造出附着力强、表面光滑、厚度均匀、组成成分纯度高的电阻层和发射层,提高微通道板的性能稳定性,延长其工作寿命。

著录项

  • 公开/公告号CN104152868B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201410363192.2

  • 发明设计人 朱香平;邓国宝;

    申请日2014-07-28

  • 分类号C23C16/44(20060101);C23C16/52(20060101);C23C16/40(20060101);

  • 代理机构61211 西安智邦专利商标代理有限公司;

  • 代理人倪金荣

  • 地址 710119 陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号

  • 入库时间 2022-08-23 09:49:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-01-31

    专利权的转移 IPC(主分类):C23C16/44 登记生效日:20200108 变更前: 变更后: 申请日:20140728

    专利申请权、专利权的转移

  • 2016-12-07

    授权

    授权

  • 2016-12-07

    授权

    授权

  • 2014-12-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/44 申请日:20140728

    实质审查的生效

  • 2014-12-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20140728

    实质审查的生效

  • 2014-11-19

    公开

    公开

  • 2014-11-19

    公开

    公开

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