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在介电层中的双开口中形成的焊盘结构

摘要

一种图像传感器器件包括:具有正面和背面的半导体衬底;位于半导体衬底正面上的第一介电层;位于第一介电层中的金属焊盘;位于第一介电层上方以及位于半导体衬底正面上的第二介电层;从半导体衬底的背面穿透半导体衬底的开口,其中该开口包括第一部分和第二部分,所述第一部分延伸以暴露一部分金属焊盘,所述第二部分延伸以暴露一部分第二介电层;以及在开口的第一部分和第二部分中形成的金属层。本发明还提供了一种在介电层中的双开口中形成的焊盘结构。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-12-14

    授权

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  • 2013-03-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/146 申请日:20111108

    实质审查的生效

  • 2013-02-06

    公开

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