首页> 中国专利> 用于抑制微细结构体的图案倒塌的处理液和使用该处理液的微细结构体的制造方法

用于抑制微细结构体的图案倒塌的处理液和使用该处理液的微细结构体的制造方法

摘要

本发明提供一种用于抑制由多晶硅形成的微细结构体的图案倒塌的处理液以及使用该处理液的微细结构体的制造方法,所述处理液含有选自具有碳原子数12、碳原子数14和碳原子数16的烷基的吡啶鎓卤化物中的至少一种及水。

著录项

  • 公开/公告号CN103098179B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三菱瓦斯化学株式会社;

    申请/专利号CN201180043414.7

  • 发明设计人 松永裕嗣;大户秀;

    申请日2011-07-14

  • 分类号

  • 代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘新宇

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:49:09

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-12-07

    授权

    授权

  • 2013-07-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:20110714

    实质审查的生效

  • 2013-05-08

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号