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ITO层及ITO图案的制作方法、显示基板及显示装置

摘要

本发明提供了一种氧化铟锡层的制作方法,该方法通过在本底真空环境下采用磁控溅射工艺在衬底基板上沉积氧化铟锡层,所述磁控溅射工艺的工作气为氩气,在沉积非晶氧化铟锡层的过程中,向本底真空环境中通入水形成水蒸气,通入水的速度为Q2*T

著录项

  • 公开/公告号CN104313542B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 京东方科技集团股份有限公司;

    申请/专利号CN201410575788.9

  • 发明设计人 王灿;

    申请日2014-10-24

  • 分类号

  • 代理机构北京路浩知识产权代理有限公司;

  • 代理人李相雨

  • 地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

  • 入库时间 2022-08-23 09:48:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-09-28

    授权

    授权

  • 2015-02-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20141024

    实质审查的生效

  • 2015-01-28

    公开

    公开

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