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一种原子层沉积制备施主-受主共掺氧化锌薄膜的方法

摘要

本发明公开一种原子层沉积制备施主‑受主共掺氧化锌薄膜的方法,包括将基片放入ALD反应腔室中,对基片及腔室管道进行加热,然后依次进行多组分的复合沉积;所述复合沉积包括在第一次锌源沉积后,分别引入一次包含III主族元素X的施主掺杂源的掺杂沉积、第二次锌源沉积、至少两次氮掺杂源沉积及至少两次氧源沉积,形成N‑X‑N的共掺;所述氮掺杂源沉积和所述氧源的沉积顺序是先氮掺杂源沉积,后氧源沉积;所述包含III主族元素施主掺杂源沉积与所述第二次锌源沉积顺序是先包含III主族元素施主掺杂源沉积,后第二次锌源沉积。该方法可以对氧化锌薄膜进行原位的施主‑受主的共掺,以增加受主元素的掺入量,促进氧化锌薄膜的p型转变。

著录项

  • 公开/公告号CN103866280B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-10-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;

    申请/专利号CN201210533506.X

  • 发明设计人 卢维尔;夏洋;李超波;解婧;

    申请日2012-12-11

  • 分类号

  • 代理机构北京华沛德权律师事务所;

  • 代理人刘丽君

  • 地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号中科院微电子所

  • 入库时间 2022-08-23 09:47:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-10-05

    授权

    授权

  • 2014-07-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20121211

    实质审查的生效

  • 2014-06-18

    公开

    公开

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