首页> 中国专利> 一种用于放射性同位素生产系统的靶设备

一种用于放射性同位素生产系统的靶设备

摘要

本发明提供一种用于放射性同位素生产系统的靶设备。所述靶设备包括生产室,所述生产室配置成容纳启动液体。所述生产室配置成接纳粒子束,所述粒子束入射到所述启动液体上,从而产生放射性同位素并且将所述启动液体的一部分转换成蒸汽。所述靶设备还包括冷凝室和流体通道,所述流体通道将所述生产室和冷凝室流体连通,并且配置成允许所述蒸汽从所述生产室流动到所述冷凝室。所述冷凝室配置成将所述蒸汽转换成冷凝液体。

著录项

  • 公开/公告号CN103621189B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-09-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 通用电气公司;

    申请/专利号CN201280029863.0

  • 发明设计人 J.诺尔林;T.埃里克松;

    申请日2012-06-13

  • 分类号H05H6/00(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人肖日松;谭祐祥

  • 地址 美国纽约州

  • 入库时间 2022-08-23 09:47:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-09-14

    授权

    授权

  • 2014-04-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 6/00 申请日:20120613

    实质审查的生效

  • 2014-03-05

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号