法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-09-14
授权
授权
2014-09-10
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 45/00 申请日:20140528
实质审查的生效
2014-08-13
公开
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机译: 非晶碳膜的形成方法,非晶碳膜,多层电阻膜,半导体装置的制造方法以及计算机可读取的介质
机译: 非晶碳膜的形成方法,非晶碳膜,多层电阻膜,半导体装置的制造方法以及计算机可读存储介质
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