首页> 中国专利> 校正试样和荧光X射线分析装置与荧光X射线分析方法

校正试样和荧光X射线分析装置与荧光X射线分析方法

摘要

本发明的课题在于提供一种校正试样和荧光X射线分析装置与荧光X射线分析方法,提供液体试样的荧光X射线分析用的校正试样等,其可长期使用,且可进行正确的偏差校正。本发明的校正试样为固体的校正试样,该校正试样用于在液体试样的荧光X射线分析中,校正分析对象金属元素的测定X射线强度的伴随时间的变化,其中,包含分析对象金属元素的金属层与厚度为1mm以上的轻元素层重合地形成,该轻元素层中,氢、硼、碳、氮、氧和氟中的至少1种轻元素具有最大摩尔份数,在上述金属层中,与轻元素层相对的那一面的相反侧表面为分析面。

著录项

  • 公开/公告号CN103048346B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-08-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社理学;

    申请/专利号CN201210392351.2

  • 发明设计人 小林宽;

    申请日2012-10-16

  • 分类号

  • 代理机构北京三幸商标专利事务所(普通合伙);

  • 代理人刘激扬

  • 地址 日本国东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:46:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-31

    授权

    授权

  • 2014-09-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 23/223 申请日:20121016

    实质审查的生效

  • 2013-04-17

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号