首页> 中国专利> 一种光学邻近修正的焦平面选择方法

一种光学邻近修正的焦平面选择方法

摘要

本申请公开了一种光学邻近修正的焦平面选择方法,该方法在建立光学邻近效应模型过程中,在原本对焦平面不敏感的光罩图形中加入焦平面敏感的检测图形,用于选择最佳焦平面相关参数的取值,突破了用泊桑曲线选择最佳焦平面的局限性。

著录项

  • 公开/公告号CN103631083B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-08-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201210297030.4

  • 发明设计人 王辉;刘庆炜;

    申请日2012-08-20

  • 分类号

  • 代理机构北京德琦知识产权代理有限公司;

  • 代理人牛峥

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江路18号

  • 入库时间 2022-08-23 09:46:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-31

    授权

    授权

  • 2014-04-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/36 申请日:20120820

    实质审查的生效

  • 2014-03-12

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号