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一个光罩内的单元芯片存在不同图像条件的缺陷扫描方法

摘要

本发明公开了一种一个光罩内的单元芯片存在不同图像条件的缺陷扫描方法,通过采用定义单元芯片的扫描区域内重复的最小重复单元,让相邻的最小重复单元之间进行对比来确认是否存在缺陷的array mode缺陷扫描方法,对半导体图像处理实验芯片上一个光罩内的不同单元芯片的对应功能区域存在具有不同图形和CD参数的图像条件的情况,进行精确的缺陷扫描。本发明适用于单元芯片内存在多个不同图形的重复CELL区域的情况,以及单元芯片内相同位置的CELL区域大小相同,但同一区域的重复的CELL区的CD大小或者图形不同的情况,可避免die to die缺陷扫描方法造成的缺陷误判干扰,因而提高了实验芯片的良率。

著录项

  • 公开/公告号CN103928365B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-09-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;

    申请/专利号CN201410173942.X

  • 发明设计人 何理;许向辉;郭贤权;陈超;

    申请日2014-04-28

  • 分类号

  • 代理机构上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人吴世华

  • 地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

  • 入库时间 2022-08-23 09:46:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-09-07

    授权

    授权

  • 2014-08-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/66 申请日:20140428

    实质审查的生效

  • 2014-07-16

    公开

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