法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-31
授权
授权
2015-04-22
实质审查的生效 IPC(主分类):C03C 15/00 申请日:20141106
实质审查的生效
2015-03-25
公开
公开
机译: 通过磁性溅射在基底上快速沉积化合物层的方法,可用于在各种基底上沉积光学,装饰,硬质和减磨涂层以及其他改善表面的涂层
机译: 在光学元件的基底上施加至少一层中间层的方法,其中将至少一种聚合物的水溶液至少一次施加在待涂覆的基底表面上
机译: 基底表面上具有可控光学厚度的二氧化钛薄膜形成方法