法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-31
授权
授权
2015-07-08
实质审查的生效 IPC(主分类):C01G 3/02 申请日:20150318
实质审查的生效
2015-06-10
公开
公开
机译: 高,低含量氯氧化铜的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法