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一种采用镀膜法制备宽光谱高透过率增透膜的方法

摘要

一种采用镀膜法制备宽光谱高透过率增透膜的方法,通过制备含Si低分子、低粘度、低粒度、低折射率的前驱液,控制镀膜的工艺条件,就可获得宽光谱高透过率增透膜,包括如下步骤:1)配置含Si低分子、低粘度、低粒度、低折射率的前驱液;2)利用上述前驱液采用镀膜法在衬底材料单面或双面蒸镀折射率为1.2‑1.4、厚度为30‑150纳米的透明增透膜层;3)将镀膜后的样品在马佛炉进行退火以增加其附着力和耐磨性制得目标物。本发明的优点是:采用镀膜法制备宽光谱高透过率增透膜的方法,在可见光380‑780nm的宽光谱范围内,可以在任意材质的玻璃上获得透过率增加值Δτ

著录项

  • 公开/公告号CN104150786B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-08-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南开大学;

    申请/专利号CN201410390242.6

  • 发明设计人 王广才;李玉成;张晓丹;赵颖;

    申请日2014-08-11

  • 分类号

  • 代理机构天津佳盟知识产权代理有限公司;

  • 代理人侯力

  • 地址 300071 天津市南开区卫津路94号

  • 入库时间 2022-08-23 09:46:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-24

    授权

    授权

  • 2014-12-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):C03C 17/23 申请日:20140811

    实质审查的生效

  • 2014-11-19

    公开

    公开

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