公开/公告号CN104025720B
专利类型发明专利
公开/公告日2016-08-24
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社新动力等离子体;
申请/专利号CN201380004082.0
发明设计人 崔相敦;
申请日2013-12-26
分类号
代理机构北京路浩知识产权代理有限公司;
代理人谢顺星
地址 韩国京畿道
入库时间 2022-08-23 09:45:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-24
授权
授权
2014-10-08
实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 1/24 申请日:20131226
实质审查的生效
2014-09-03
公开
公开
机译: 生产用于蚀刻半导体衬底的三氟化氯的设备包括等离子体反应器,用于在反应器内部形成等离子体的等离子体产生单元和用于将气体引入反应器的气体进料
机译: 生产用于蚀刻半导体衬底的三氟化氯的设备包括等离子体反应器,用于在反应器内部形成等离子体的等离子体产生单元和用于将气体引入反应器的气体进料
机译: Termodin mico反应器,用于利用等离子体法处理氢离子等离子体并利用可燃废物和回收能处理水溶等离子体