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可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法

摘要

本发明提供一种可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法,包括如下步骤:步骤1、提供紫外光灯(10)与待紫外光清洗的基板(20);步骤2、在紫外光灯(10)与待紫外光清洗的基板(20)之间设置数块遮光板(30);步骤3、转动遮光板(30),调整紫外光灯(10)发出的紫外光照射到基板(20)上的面积,从而控制单位时间内紫外光照射到基板(20)上的能量;步骤4、紫外光灯(10)发出紫外光清洗基板(20)。通过该方法可以灵活调节用于基板清洗的紫外光能量,达到既能有效去除黏附于基板表面的有机物,又能避免设于基板上的电路图形被静电击伤的目的,从而提高产品品质及良率。

著录项

  • 公开/公告号CN103962346B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-08-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市华星光电技术有限公司;

    申请/专利号CN201410216997.4

  • 发明设计人 姚江波;

    申请日2014-05-21

  • 分类号

  • 代理机构深圳市德力知识产权代理事务所;

  • 代理人林才桂

  • 地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号

  • 入库时间 2022-08-23 09:45:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-24

    授权

    授权

  • 2014-09-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):B08B 7/00 申请日:20140521

    实质审查的生效

  • 2014-08-06

    公开

    公开

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