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一种能有效减少大颗粒的抛光液供给装置

摘要

本实用新型为一种能有效减少大颗粒的抛光液供给装置,包括抛光液循环供给模块、回流大颗粒去除模块、抛光液供给模块、去离子水清洗模块和大颗粒检测控制模块。在回流管路和供给管路末端加入大颗粒去除设备,用于减少抛光液中的大颗粒数量,以减少划伤,提高抛光质量。去离子水清洗模块可对整个抛光液供给装置进行清洗,避免管路出现结晶和大颗粒残存;去离子水清洗控制阀和循环控制阀为开闭状态互斥控制阀,实现供给状态与清洗状态互斥,在方便清洗的同时确保抛光液供给模块的正常工作。大颗粒检测控制模块包括大颗粒检测控制单元和大颗粒检测传感器,能根据抛光液的大颗粒数量自动控制循环管路的回流量,快速有效实现抛光液中大颗粒的去除。

著录项

  • 公开/公告号CN217225052U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-08-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 河北工业大学;天津城建大学;

    申请/专利号CN202120743219.6

  • 发明设计人 刘国瑞;牛新环;刘玉岭;

    申请日2021-04-13

  • 分类号B24B37/34(2012.01);B24B57/02(2006.01);

  • 代理机构天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210;

  • 代理人付长杰

  • 地址 300401 天津市北辰区西平道5340号

  • 入库时间 2022-09-26 23:47:52

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