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曝光装置用的对准装置以及对准标记

摘要

对准装置设置有射出用于对准的光的对准光源,例如内置于照相机。而且,对准光源例如与照相机检测出的光的光轴同轴地射出对准光。对准光照射到基板和掩模,反射光由照相机所检测。在掩模对准标记与基板对准标记之间还存在用于曝光的微透镜阵列,由此,从基板对准标记反射的正立等倍像被成像在掩模上。进而,通过由照相机检测出的掩模对准标记的反射光以及基板对准标记,控制装置进行基板与掩模的对准。由此,能以高精度执行基板与掩模的对准。

著录项

  • 公开/公告号CN103858208B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-08-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社V技术;

    申请/专利号CN201280039116.5

  • 发明设计人 桥本和重;

    申请日2012-08-07

  • 分类号H01L21/027(20060101);G03F9/00(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人毛立群;王忠忠

  • 地址 日本神奈川县横浜市

  • 入库时间 2022-08-23 09:45:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-08-24

    授权

    授权

  • 2014-07-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20120807

    实质审查的生效

  • 2014-06-11

    公开

    公开

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