法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-24
授权
授权
2014-07-09
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20120807
实质审查的生效
2014-06-11
公开
公开
机译: 用于将晶片与曝光设备对准的半导体晶片对准标记,用于从对准标记产生对准信号的对准系统以及根据对准标记确定晶片的对准状态的方法
机译: 用于将晶片与曝光设备对准的半导体晶片对准标记,用于从对准标记产生对准信号的对准系统以及根据对准标记确定晶片的对准状态的方法
机译: 半导体晶片对准标记,用于对有曝光设备的晶片进行对准;从对准标记产生对准信号的对准系统;以及从对准标记确定晶片对准状态的方法