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一种双模式调节的支架旋转机构

摘要

本申请涉及一种双模式调节的支架旋转机构,其包括基架、连接杆、切换组件、底盘、波簧以及调节件;连接杆与基架转动连接,切换组件位于基架与连接杆之间,切换组件设置有容置腔室;底盘位于切换组件与基架之间且底盘与基架连接,底盘设置有沿调节件运动轨迹分布的若干第一定位槽;波簧位于底盘和基架之间;调节件安装于容置腔室,调节件具有完全位于容置腔室的收态和部分位于容置腔室的凸态,收态时,调节件与底盘接触;凸态时,调节件一端位于第一定位槽内且与第一定位槽卡接,且底盘抵压波簧。本申请具有各角度的精细调节和固定角度的粗调节的效果。

著录项

  • 公开/公告号CN216976337U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-07-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市友兴达精密五金有限公司;

    申请/专利号CN202220659314.2

  • 发明设计人 刘镜昌;范茂南;

    申请日2022-03-24

  • 分类号F16M11/04;F16M11/10;F16M11/16;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 518000 广东省深圳市坪山区坑梓街道坑梓社区梓兴路138号D栋201

  • 入库时间 2022-09-06 01:08:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-07-15

    授权

    实用新型专利权授予

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