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BaF2基底3.7-4.8μm7.7-9.5μm双波段减反射膜

摘要

本实用新型公开了BaF2基底3.7‑4.8μm&7.7‑9.5μm双波段减反射膜,所述减反射膜包括基底层,所述基底层上设置有膜层结构,所述基底层和膜层结构之间通过Y2O3层连接。本实用新型在实际应用中,可以有效解决BaF2材料光学零件容易脱膜的难题,能够有效提升减反膜的膜层牢固性和3.7‑4.8μm&7.7‑9.5μm波段内光谱透过率。

著录项

  • 公开/公告号CN216209995U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-04-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 云南北方光学科技有限公司;

    申请/专利号CN202122642419.5

  • 申请日2021-11-01

  • 分类号G02B1/115(20150101);G02B1/14(20150101);C23C14/06(20060101);C23C14/08(20060101);C23C14/18(20060101);C23C14/32(20060101);

  • 代理机构51248 成都市鼎宏恒业知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人马汶绢

  • 地址 650000 云南省昆明市中国(云南)自由贸易试验区昆明片区经开区红外路5号102号工房

  • 入库时间 2022-08-23 05:50:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-05

    授权

    实用新型专利权授予

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