一种离子注入机束流与剂量测控装置及剂量控制方法

摘要

本发明公开了一种离子注入机束流与剂量测控装置及剂量控制方法,测控装置，包括CPU单元，CPU单元与SPI通信接口模块、ADC模块、通道程控开关、档位程控开关、束流/剂量程控开关、剂量积分电路、峰值捕捉电路、波形发生电路连接；所述SPI通信接口模块与所述ADC模块连接；所述ADC模块与所述束流/剂量程控开关连接；所述束流/剂量程控开关与所述峰值捕捉电路、剂量积分电路连接；所述束流/剂量程控开关、峰值捕捉电路、剂量积分电路均与所述档位程控开关连接；所述档位程控开关与所述通道程控开关连接；所述通道程控开关与法拉第杯接入端口连接。本发明能精确测量离子束流与剂量。