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一种精密电子工程用提高光电转换效率的单晶硅片

摘要

本实用新型公开了一种精密电子工程用提高光电转换效率的单晶硅片,包括硅片主体,所述硅片主体的上表面设置有主栅线和副栅线,所述主栅线和副栅线的顶部设置有耐腐层,所述耐腐层的顶部设置有耐磨层,所述硅片主体包括N型单晶硅片和P型单晶硅片,所述N型单晶硅片的底部固定连接有金属导电层,所述P型单晶硅片的顶部设置有镓晶体硅层,所述镓晶体硅层的顶部设置有单晶硅绒面层。本实用新型通过聚光层、增透层、镓晶体硅层和单晶硅绒面层的作用,使得本单晶硅片具备光电转换效率高的优点,解决了现有的单晶硅片在使用时照射的光能容易反射,导致单晶硅片对光能利用率达不到要求,进而降低了其光电转换效率的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN215911434U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-02-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 大连优易科技电子技术有限公司;

    申请/专利号CN202122042725.5

  • 发明设计人 翁薛金;

    申请日2021-08-27

  • 分类号H01L31/0224(20060101);H01L31/0236(20060101);H01L31/0216(20140101);H01L31/054(20140101);

  • 代理机构21251 沈阳天赢专利代理有限公司;

  • 代理人孙万玲

  • 地址 116000 辽宁省大连市甘井子区辛虹北园12号3单元8层1号

  • 入库时间 2022-08-23 05:03:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-02-25

    授权

    实用新型专利权授予

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