一种消除CMP加工中心边缘差异的设备

摘要

本实用新型涉及一种消除CMP加工中心边缘差异的设备，包括上表面设有载物组件的机架，还包括载物组件上面设置的旋转组件，其特征在于：所述载物组件包括转盘及转盘轴心下设置的驱动装置，所述转盘上表面活动嵌设有动力载物台，所述动力载物台上表面设有用于放置晶片的载物槽；所述载物组件的一侧设有与机架上表面固定的支撑架；所述旋转组件穿设在支撑架上，所述旋转组件包括输出端连接有电机的动力缸，还包括所述电机输出端安装的旋转出液盘，所述旋转出液盘的底部包覆有抛光布。该消除CMP加工中心边缘差异的设备，有效解决了化学试剂的均匀性、压力的均匀性，以及加强排除CPM加工过程物料的能力，消除加工边缘差异，提升产品均匀品质。