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公开/公告号CN215730514U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-02-01
原文格式PDF
申请/专利权人 武汉华工图像技术开发有限公司;
申请/专利号CN202121595458.8
发明设计人 石建行;申政;严龙泉;周聪;杨志方;
申请日2021-07-13
分类号G09F3/02(20060101);B42D25/30(20140101);
代理机构11463 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙);
代理人吕露
地址 430000 湖北省武汉市华工科技园内
入库时间 2022-08-23 04:26:00
机译: 带有多个图像的水印的防伪全息膜,一种制造方法和一种水印识别方法,可通过水印轻松识别是否有真相膜的安全产品
机译: 透明防伪膜
机译: 制备包括半透明载体膜和部分涂覆的顶层的安全膜,用于制备安全膜,例如用于带有字母,数字,符号,点或图案的防伪纸
机译:高度看不见的光子晶体图案,在反透明剂大孔聚氨酯膜中加密,用于防伪应用
机译:透明制造发光稀土掺杂PS / AA复合材料,用于防伪造应用
机译:透明硼氮化物纳米膦酰化朝向防伪应用的可调谐彩色发射
机译:永久封装由喷墨打印机形成的纳米颗粒图案,用于透明和灵活的防伪应用
机译:使用近场通信,公钥密码学,区块链和贝叶斯游戏的安全防伪系统
机译:防伪标签用手指温度检测液晶复合膜
机译:具有防伪注意事项的基本主动Dmsms管理