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一种X射线治疗剂量控制装置

摘要

一种X射线治疗剂量控制装置,包括底座安装机构、位置调节机构、光源发生机构、光源反射机构、控制切换机构和聚焦调节机构。本实用新型通过光源发生机构发生出X光照射入光源反射机构内,通过光源反射机构内部结构调整反射波的角度,使得X光散射到控制切换机构上端的聚焦调节机构上,通过聚焦调节机构内部机构调节散射集中程度,进行X光投影的距离控制,同时通过位置调节机构控制光源发生机构、光源反射机构和控制切换机构、聚焦调节机构调节上下高度,最后由光源反射机构的调节和控制切换机构来切换不同聚光片和散光片实现对X射线的剂量控制,通过上述整个过程完成整个X射线的治疗剂量控制。

著录项

  • 公开/公告号CN215505179U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-01-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉大学;

    申请/专利号CN202121257980.5

  • 发明设计人 胡颖;万玮;

    申请日2021-06-07

  • 分类号A61N5/10(20060101);

  • 代理机构42222 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人姜学德

  • 地址 430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学

  • 入库时间 2022-08-23 03:57:42

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