公开/公告号CN215493109U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-01-11
原文格式PDF
申请/专利权人 武汉正可科技有限公司;
申请/专利号CN202121820339.8
发明设计人 王廷华;
申请日2021-08-05
分类号G01N21/01(20060101);G01N21/84(20060101);
代理机构42252 湖北天领艾匹律师事务所;
代理人刘点
地址 430000 湖北省武汉市东湖开发区武汉大学科技园内创业楼
入库时间 2022-08-23 03:46:45
机译: 晶体纹理应力测角仪-使用可以绕三个轴旋转而不会干扰X =射线束的晶体的晶体样本
机译: 可选的X射线测角仪)-进动记录和旋转晶体记录
机译: X射线测角仪具有相对于固定X射线源和旋转晶体支持自动平移的胶片载体