纳米压印方法和在纳米压印方法中采用的抗蚀剂组合物

摘要

纳米压印方法采用抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物包含可聚合化合物和聚合引发剂，其各自具有吸收区域在250nm至500nm的范围内的吸收光谱性质。所述聚合引发剂的吸收区域的较长波长端波长比所述可聚合化合物的吸收区域的较长波长端波长长。此外，所述抗蚀剂组合物的曝光通过具有满足预定关系式的光谱强度性质的光进行。本发明能够抑制模型由粘合物质的污染，并且能够形成具有足够的耐刻蚀性的抗蚀剂图案。