公开/公告号CN215183349U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-12-14
原文格式PDF
申请/专利权人 昆山光茂兴电子有限公司;
申请/专利号CN202121061876.9
发明设计人 邓保财;
申请日2021-05-18
分类号H01F1/04(20060101);H01F1/16(20060101);
代理机构11740 北京棘龙知识产权代理有限公司;
代理人李改平
地址 215000 江苏省苏州市昆山市周市镇陆杨倪家浜路1222号3号房
入库时间 2022-08-23 03:14:36
机译: 用于掩模坯料的基板的生产方式,具有多层反射膜的基板的生产方式,反射模片掩模坯料的生产方式以及反射模片掩模的生产方式
机译: 反射模片毛坯和反射模片的生产方式,以及生产方式
机译: 通过光学反射模片掩模和光学器件的生产方式形成反射模片的掩模图案。