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公开/公告号CN215394169U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-01-04
原文格式PDF
申请/专利权人 杭州精瑞科技有限公司;
申请/专利号CN202121389279.9
发明设计人 冯晓宇;程松涛;费文强;闫恒;周志杰;
申请日2021-06-22
分类号B24B1/04(20060101);B24B57/02(20060101);
代理机构33371 浙江新篇律师事务所;
代理人王嘉
地址 310011 浙江省杭州市莫干山路1418-38号1幢3层302室(上城科技工业基地)
入库时间 2022-08-23 02:46:34
机译: 一种用于在手和脚上抛光和抛光指纹的系统,包括用于皮肤护理的条带,该条带包括一层硅胶涂层和磨料颗粒;用于抛光一只手或一只手。脚
机译: 一种用于对刀片进行打磨,抛光(抛光)和镜面抛光的设备,并通过螺旋导向装置对磨料和pleestmaschinen进行抛光。
机译: 使用固定的磨料抛光垫和铜层化学机械抛光解决方案的铜化学机械抛光工艺,特别适用于固定的磨料抛光垫进行化学机械抛光
机译:超声波处理:CVD金刚石薄膜抛光技术-无磨料颗粒超声波抛光方法的检验
机译:超声波加工:CVD金刚石抛光技术 - 磨料谷粒超声波抛光法的研究
机译:化学机械磨料流量加工(CM-AFM):一种新型高效技术,用于在内孔表面上抛光金刚石薄涂层
机译:一种用于磨料流动加工新型水基粘弹性抛光液的制备及应用
机译:用于化学机械抛光的二氧化硅和二氧化铈纳米颗粒混合磨料浆料的胶体稳定性研究。
机译:单型植入性非外科治疗的单一初始阶段的影响:磨料空气抛光与超声波。预期随机对照临床研究
机译:蓝宝石微腔水合辅助超声波磨料流动抛光技术
机译:不依赖于厚度的超声波成像应用于磨料切割轮:磨料工业的先进航空材料表征方法。美国宇航局刘易斯研究中心技术转让案例历史