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利用光学方法测量物体位移及变形的系统

摘要

本实用新型属于采用光学方法为特征的计量设备技术领域,具体涉及一种利用光学方法测量物体位移及变形的系统,包括单色光源,单色光源发出的单色光线经过汇聚光路形成聚焦点,单色光线经过聚焦点后形成衍射投影光路,衍射投影光路上设置有成像接收装置,被测物体置于聚焦点处。本实用新型利用新型的光路原理,可以测量光学图像极其微小的位移或者变形,而利用本系统可以精确测量物体的位移或者变形量。

著录项

  • 公开/公告号CN215413603U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-01-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 陈方;

    申请/专利号CN202120190049.3

  • 发明设计人 陈方;陆虹;高仁璟;

    申请日2021-01-22

  • 分类号G01B11/02(20060101);G01B11/16(20060101);

  • 代理机构50217 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人廖龙春

  • 地址 400000 重庆市江北区文星门街30号观澜苑B区6栋601

  • 入库时间 2022-08-23 02:43:13

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