公开/公告号CN215417051U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-01-04
原文格式PDF
申请/专利权人 艺间画舫(天津)教育科技有限公司;
申请/专利号CN202120854013.0
发明设计人 曹奡;
申请日2021-04-25
分类号G09B5/02(20060101);G03B21/14(20060101);G03B21/16(20060101);G03B21/54(20060101);
代理机构
代理人
地址 300000 天津市北辰区天穆镇绿岛家园67号楼A座4号一层北侧
入库时间 2022-08-23 02:42:37
机译: 一种教育和评估的装置,以及一种教育和评估的装置
机译: 在正常光线下进行投影的装置
机译: 适用于形成图案的重复性曝光的投影曝光设备,一种使用其的投影曝光方法,一种制造曝光成员的方法以及一种包括曝光模式列的半导体装置