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一种基材离子轰击装置

摘要

本实用新型公开了一种基材离子轰击装置,包括其结构本体,结构本体包括若干个阴极发射组件、若干个正极收集组件、炉体、真空负压机、压力检测器及气体压缩机;正极收集组件包括绝缘底座、伸缩杆及正极金属槽,绝缘底座设置在炉体底部内表面,炉体为双层结构,炉体包括不锈钢支撑外壳及绝缘层,真空负压机、压力检测器及气体压缩机均分别设置在不锈钢支撑外壳外表面;阴极发射组件包括负极线插头、阴极导电套、阴极导电杆、绝缘外壳、绝缘垫圈及螺母及防弧罩;离子束较为集中,轰击的渗透速度更快,加工件的硬化层相比来说更深,遍布面积广,扩散速度快,工件的变形小,整体的加工效率更加高,产品的质量更好。

著录项

  • 公开/公告号CN215328324U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-12-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 广东东华光电科技有限公司;

    申请/专利号CN202120967944.1

  • 发明设计人 张大鹏;

    申请日2021-05-07

  • 分类号C23C8/38(20060101);

  • 代理机构44681 广东有知猫知识产权代理有限公司;

  • 代理人彭琼

  • 地址 523000 广东省东莞市厚街镇汀山村坑口工业区

  • 入库时间 2022-08-23 02:31:05

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