公开/公告号CN214610252U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-11-05
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院金属研究所;沈阳非晶金属材料制造有限公司;
申请/专利号CN202120369897.0
申请日2021-02-10
分类号B65G47/91(20060101);
代理机构21234 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人张志伟
地址 110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号
入库时间 2022-08-23 01:37:38
机译: 真空工件支架,用于板状工件的无侵入安装
机译: 具有球形滑动密封真空馈通的离子束注入机的工件支撑结构
机译: 用于金属工件的辉光放电处理容器-真空密封壁连接,绝缘子衬套中的铅被球形长柄包围