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一种电磁屏蔽层及电磁屏蔽腔室

摘要

本实用新型属于电磁屏蔽技术领域,具体涉及一种电磁屏蔽层及电磁屏蔽腔室。一种电磁屏蔽层,从上到下依次包括第一聚酰亚胺保护层、第一银纳米线层、聚酰亚胺衬底、第二银纳米线层、第二聚酰亚胺保护层,第一聚酰亚胺保护层的厚度为9‑11μm、第一银纳米线层的厚度为28‑32nm,聚酰亚胺衬底的厚度为120‑130μm,第二银纳米线层的厚度为28‑32nm,第二聚酰亚胺保护层的厚度为9‑11μm。本实用新型中的电磁屏蔽层采用聚酰亚胺与银纳米线复合的电磁屏蔽膜,利用聚亚酰胺层机械性能高、抗高温以及银纳米线质量轻、透过率高的特点,得到了一种轻质、寿命长且可卷曲的电磁屏蔽层。

著录项

  • 公开/公告号CN214592683U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-11-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市华科创智技术有限公司;

    申请/专利号CN202120345531.X

  • 申请日2021-02-07

  • 分类号H05K9/00(20060101);

  • 代理机构44489 深圳国海智峰知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人王庆海;刘军锋

  • 地址 518116 广东省深圳市龙岗区宝龙街道宝龙社区宝荷大道76号龙岗智慧家园A座601-604

  • 入库时间 2022-08-23 01:26:27

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