一种设施栽培均衡灌溉设备

摘要

本实用新型公开了一种设施栽培均衡灌溉设备，属于农业设施栽培灌溉设备。所述的均衡灌溉设备包括PLC、灌溉设备、运行轨道、位置传感器、喷头、恒压输水管道，所述的运行轨道安装于栽培苗床上方，灌溉设备安装在运行轨道上，能够在运行轨道上移动，运行轨道两端安装有位置传感器，灌溉设备下方安装有恒压输水管道，恒压输水管道上均匀间隔布置有喷头，PLC控制输出端与灌溉设备控制输入端连接，位置传感器输出端与PLC输入端连接。可实现对设施栽培中栽培基质的充分浸湿、均匀浸湿和无损浸湿，使栽培作物根系生长良好，植株繁茂。