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剪力墙、框架-剪力墙结构及抗震建筑

摘要

本实用新型涉及建筑结构设计领域,尤其涉及一种剪力墙、框架‑剪力墙结构及建筑。该剪力墙用于抗震建筑中,剪力墙的厚度大于或等于300mm,剪力墙的高厚比为4‑8,相邻剪力墙在抗震建筑中的间距为D,抗震建筑的柱跨为d,D/d≤3,D≤20m;其中,任一剪力墙的底部承担的水平剪力小于或等于抗震建筑的底部承担的水平总剪力的15%;该框架‑剪力墙结构包括设置在抗震建筑外周的用于形成外框架结构的外框柱、外框梁和第一剪力墙;设置在抗震建筑内部的用于形成内框架结构的内框柱、内框梁和第二剪力墙;采用本方案的剪力墙或框架‑剪力墙结构的建筑,可以具有更好的抗侧移及抗扭刚度、施工简单和成本经济的优点。

著录项

  • 公开/公告号CN213539275U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-06-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市建筑设计研究总院有限公司;

    申请/专利号CN202021832684.9

  • 发明设计人 唐匡政;张建军;

    申请日2020-08-25

  • 分类号E04B1/00(20060101);E04B2/56(20060101);E04B1/98(20060101);E04H9/02(20060101);

  • 代理机构44381 广州德科知识产权代理有限公司;

  • 代理人万振雄;陈晓妍

  • 地址 518032 广东省深圳市福田区振华路8号设计大厦

  • 入库时间 2022-08-22 22:29:19

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