公开/公告号CN213240424U
专利类型实用新型
公开/公告日2021-05-18
原文格式PDF
申请/专利权人 联暻半导体(山东)有限公司;
申请/专利号CN202022338747.1
申请日2020-10-20
分类号G01R31/28(20060101);G01R1/04(20060101);G01R1/073(20060101);
代理机构61235 汉中市铭源专利代理事务所(普通合伙);
代理人杨悦
地址 250014 山东省济南市中国(山东)自由贸易试验区济南片区经十路汉峪金谷人工智能大厦21层
入库时间 2022-08-22 21:35:31
机译: 催化反应性涂层,生产氨逃逸催化剂的方法,处理废气,降低废气流中一种或多种氨,氮氧化物,一氧化碳和碳氢化合物的浓度,还原氨,氮氧化物中的至少一种的方法,废气中的co和碳氢化合物,用于还原或氧化废气中的氨,nox,co和碳氢化合物中的至少一种,以降低废气流中氨,nox,co和thc的至少一种的浓度,用于降低发动机冷启动期间排气流中的NOx浓度,以及用于制备催化剂制品,排气系统和氨泄漏催化剂。
机译: 宽度测量装置。用于芯片制造中的掩模。 -利用干涉产生带有两个频率的超声波激发的狭缝和布拉格单元的条纹
机译: 记录了一种能够通过降低溶解氧来提高可靠性和基质处理效率的基础处理设备和一种基质处理方法以及用于执行基质处理方法的计算机程序中的记录介质