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带有很高的衬底-栅极击穿和嵌入式雪崩箝位二极管的横向超级结器件

摘要

本发明公开了一种带有很高的衬底‑栅极击穿和嵌入式雪崩箝位二极管的横向超级结器件,在位于N+衬底上的P‑外延层上方,通过堆积式交替的P型和N型半导体层,构成一个横向超级结JFET。N+漏极立柱向下延伸,穿过超级结结构和P‑外延层,连接到N+衬底,从而构成一个底部漏极器件。N+源极立柱和P+栅极立柱穿过超级结延伸,但是在P‑外延层终止。从底部P+栅极立柱开始,穿过P‑外延层,到N+漏极衬底,形成一个栅极‑漏极雪崩箝位二极管。

著录项

  • 公开/公告号CN103794653B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-08-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 万国半导体股份有限公司;

    申请/专利号CN201310377546.4

  • 申请日2010-11-29

  • 分类号H01L29/80(20060101);H01L29/78(20060101);H01L29/06(20060101);H01L29/08(20060101);H01L29/423(20060101);H01L21/335(20060101);H01L21/336(20060101);

  • 代理机构31249 上海信好专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人张静洁;贾慧琴

  • 地址 美国加利福尼亚94085桑尼维尔奥克米德公园道475号

  • 入库时间 2022-08-23 09:43:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-15

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L29/80 登记生效日:20200427 变更前: 变更后: 申请日:20101129

    专利申请权、专利权的转移

  • 2016-08-10

    授权

    授权

  • 2016-08-10

    授权

    授权

  • 2014-06-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/80 申请日:20101129

    实质审查的生效

  • 2014-06-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/80 申请日:20101129

    实质审查的生效

  • 2014-05-14

    公开

    公开

  • 2014-05-14

    公开

    公开

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