一种可实现高灌注量精度的真空灌注室结构

摘要

本实用新型公开了一种可实现高灌注量精度的真空灌注室结构，包括真空灌注室本体，真空灌注室本体顶部安装灌注头，灌注头上设置气动针阀，真空灌注室本体内部安装电子天平，在真空灌注室本体内部两侧安装有可升降的内部传送带座，内部传送带座位于电子天平上方。本实用新型所提出的结构可以为实现高精度的灌注量，闭环控制提供必要的机械结构基础。