抛光组合物及利用该抛光组合物的抛光方法

摘要

本发明提供一种抛光组合物，包含磨粒以及由R²?R¹?SO₃H(其中，R¹为具有1至4个碳原子的线性的亚烷基或羟基亚烷基，并且当R¹为线性的亚烷基时R²为羟基、羧基、或磺酸基，或者当R¹为线性的羟基亚烷基时R²为羧基或羟甲基)或者C₆H₅?R³(其中，R³为磺酸基或膦酸基)所代表的酸。抛光组合物中所包含的酸，优选羟乙基磺酸或苯磺酸。该抛光组合主要用于对硅氧化物材料进行抛光的用途，所述硅氧化物材料包括：用于硬盘的玻璃基片、用于光掩膜的合成石英基片、以及低介电常数膜(如，半导体器件的二氧化硅膜、掺硼磷的硅玻璃(BPSG)膜、磷硅玻璃(PSG)膜、氟硅酸盐玻璃(FSG)膜、和有机硅氧烷膜)。