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一种用于IDC机房地板下送风气流组织优化装置

摘要

本实用新型涉及气流优化技术领域,特别地,涉及一种用于IDC机房地板下送风气流组织优化装置,包括上导风罩和下导风罩;其中所述上导风罩上下两端敞口,且所述上导风罩的一侧侧壁开口形成上侧风口;所述下导风罩上端敞口形成出风口,下导风罩靠近上侧风口一侧的侧壁敞口形成与上侧风口连通的下侧风口;所述下导风罩的出风口端经上导风罩的下端敞口活动穿套在上导风罩内。可以防止靠近出风口的开孔地板上方形成负压,使冷风无法送至机柜给服务器降温,形成送风盲点的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN212436181U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-01-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州富春云科技有限公司;

    申请/专利号CN202021256422.2

  • 发明设计人 钱春潮;徐城;胡治永;郑建安;

    申请日2020-06-30

  • 分类号H05K7/20(20060101);

  • 代理机构33305 杭州信义达专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人陈继算

  • 地址 311100 浙江省杭州市富阳区场口镇太阳山路10号

  • 入库时间 2022-08-22 19:24:19

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