一种化学气相沉积CVD粉料前驱体输送装置

摘要

本发明涉及一种化学气相沉积CVD粉料前驱体输送装置，包括储粉罐、送气管道、低温加热装置。储粉罐内设置有螺旋送粉器，马达设置在储粉罐上，螺旋送粉器上端连接马达，通过马达的转速来控制粉料下落的速度从而达到控制粉料挥发的速率。送气管道分为进气区、混合区和加热区，低温加热装置包括低温加热管，低温加热管内部设置有保温材料，在低温加热管上设置有显示屏，该显示屏显示当前低温加热管内腔的温度，并通过手动调节温度，控制低温加热装置的加热温度。上述结构具有制造方便、成本低以及实用性高等优势。