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一种PVT法生长大尺寸碳化硅单晶的热场结构

摘要

本实用新型提供一种PVT法生长大尺寸碳化硅单晶的热场结构。它包括中频加热线圈、石墨毡保温层、内坩埚、籽晶托、外坩埚、气体冷却装置和外坩埚盖,中频加热线圈设置在石墨毡保温层外圈,石墨毡保温层设置在外坩埚外圈,内坩埚与外坩埚构成可分离式嵌套结构的坩埚,内坩埚内装填碳化硅原料,籽晶托为内坩埚盖设置在内坩埚上方,外坩埚的坩埚壁呈梯度分布,由下至上直径逐渐变小,外坩埚盖上部设有均匀的气体冷却装置。本实用新型能够提高热场稳定性,使得工艺重现性大幅提高,从而提高大尺寸碳化硅晶体的质量,解决现有技术中的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN212357456U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-01-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司;

    申请/专利号CN202020392242.0

  • 发明设计人 左洪波;杨鑫宏;李铁;阎哲华;

    申请日2020-03-25

  • 分类号C30B23/00(20060101);C30B29/36(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街357号

  • 入库时间 2022-08-22 19:09:27

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