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一种高气密性的派瑞林真空纳米镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种高气密性的派瑞林真空纳米镀膜设备,包括密封板和气缸,所述密封板底部与壳体固定连接,且壳体底部安装有底箱,同时壳体内部安装有固定支架,并且固定支架内部固定连接有插块,插块上安装有基板,固定支架上侧安装有横板,且固定支架右下侧与万向轮固定连接,同时固定支架底部与轴杆固定连接,并且轴杆端部通过轴承穿过动力箱与转动齿轮固定连接,真空管的上端设置在壳体内部,且真空管的下端部与底箱内部的真空装置固定连接;所述气缸的伸缩杆与动力箱固定连接。该高气密性的派瑞林真空纳米镀膜设备,基板设置为12组环形设置在固定支架上,一次可完成12组基板的镀膜作业,装置镀膜工作效率高。

著录项

  • 公开/公告号CN212189712U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-12-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市山禾乐科技开发有限公司;

    申请/专利号CN202020662792.X

  • 发明设计人 王静;

    申请日2020-04-27

  • 分类号B05B13/02(20060101);B05D3/04(20060101);

  • 代理机构44276 深圳市远航专利商标事务所(普通合伙);

  • 代理人张朝阳;袁浩华

  • 地址 518000 广东省深圳市龙华新区观澜街道凹背社区大富工业区11号鹏龙蟠高科技园C栋三楼南

  • 入库时间 2022-08-22 18:43:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-12

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B05B13/02 专利号:ZL202020662792X 申请日:20200427 授权公告日:20201222

    专利权的终止

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