一种高精度低应力光学薄膜沉积装置

摘要

本实用新型涉及光学薄膜沉积领域，特别涉及一种高精度低应力光学薄膜沉积装置。本实用新型公开的一种高精度低应力原子层沉积装置，包括真空腔、基片夹具、挡板、靶材、离子源、气路系统、宽光谱监控系统；基片夹具、挡板、靶材在真空腔内从上至下依次设置，气路系统与挡板连通向真空腔中提供气体，宽光谱监控系统与所述真空腔连接实时监控薄膜沉积的厚度，实现在同一真空腔内既可进行离子束溅射沉积又可进行原子层沉积，无需跨真空腔转移基片。