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一种双滤膜绝对测氡装置

摘要

本实用新型属于核辐射测量技术领域,具体涉及一种双滤膜绝对测氡装置。包括衰变室、支架、测量室,入气管、探测器、主机、入口滤膜卡、出口滤膜卡、校准源卡、空卡、抽气管。测量室可分别测量校准源、入口滤膜卡计数、出口滤膜卡计数,并可快速地切换模式。蔽光升降轮可通过顺时针和逆时针旋转调整蔽光滑道盒上下位置,当需要更换卡时,将蔽光滑道盒位置调高,可更换卡;当需要测量及取样时,将蔽光滑道盒位置调至最低,可保证测量室密闭和蔽光。

著录项

  • 公开/公告号CN211979208U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-11-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中核控制系统工程有限公司;

    申请/专利号CN201922313714.9

  • 发明设计人 王婷婷;张庆威;

    申请日2019-12-20

  • 分类号G01T1/167(20060101);G01T1/178(20060101);

  • 代理机构11007 核工业专利中心;

  • 代理人张雅丁

  • 地址 100176 北京市大兴区经济技术开发区宏达南路3号

  • 入库时间 2022-08-22 18:05:17

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